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涂胶显影机上的温度控制案例

利用温度均一技术,减少调
温时的人工依赖

  • 半导体
  • 加工
  • FA自动化设备

设备概况

涂胶显影机是芯片制造中光刻工艺段的关键设备,主要用于在晶圆表面形成超薄光刻胶膜。其工艺主要分为两个步骤:涂胶和烘烤坚膜。
涂胶工艺是通过点胶头将光刻胶滴涂到晶圆表面,由真空吸盘吸附晶圆并高速旋转,实现光刻胶的均匀涂覆。匀胶完成后进行烘烤坚膜工艺,通过热盘加热使光刻胶中的有机溶剂挥发,最终形成均匀的超薄胶膜。

课题

人工调整温度依赖熟练工的经验,调整时也会存在过温等情况,影响生产。

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通过优化算法&MATLAB实现温度均一自动补偿算法,使各分区控温精度达到了±0.05℃,预测Rmin为0.275,时间为2秒,实现对人工调盘的替代。

实现价值

【经营层】

■ 温度控制技术深度赋能半导体制造全流程,其创新应用已达到行业先进水平,有效协同提升产业链自主化能力。

【管理层】

■ 通过设备性能优化与自动化能力升级,实现特定工序从人工调整向全自动化的转型,优化人力资源配置,支持品质精益化管理目标的实现。

【工程师层】

■ 星空(中国)一站式服务官网提供的技术支持和调试服务,使各分区控温精度达到±0.05℃,温度均一性指标R=0.28,显著提升了设备整体效率和工艺品质。

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